国际知名科技媒体WccFTech说中国EUV光刻机2025年第三季度试产
WCCFtech：China ' s In - House EUV Machines Reportedly Entering Trial Production In Q3 2025, Utilizing An Approach That Offers A Si
光刻机 euv光刻机 媒体wccftech wccftech 2025-06-26 19:02 3
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中国突破EUV光刻机技术！打破荷兰ASML垄断
在全球半导体产业的核心战场上，极紫外（EUV）光刻机技术长期被荷兰ASML垄断，成为制约中国芯片自主化的“卡脖子”难题。然而，2025年春夏之交，中国半导体领域频传捷报：中科院上海光机所研发的固体激光驱动EUV光源能量转换效率突破3.42%，上海微电子的EUV
EUV光刻机用很多偏微分方程
在 EUV 光刻机采用的通过高能脉冲激光打击锡液滴靶产生等离子体进而获得极紫外光源的过程里，锡液滴的流动行为受到多种物理因素交互影响。比如，一方面有外界施加的促使液滴喷射的压力、激光打击产生的瞬间冲击力等外力作用；另一方面，液滴自身存在的粘性、表面张力等内力因