介质层数

埃科光电申请叠层介质层数的检测方法等相关专利，根据检测曲线投影与扫描线长度确定叠层介质层数

国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“叠层介质层数的检测方法、系统、电子设备及介质”的专利，公开号CN120492761A，申请日期为2025年4月。