光刻立大功资讯

最新动向！鲍哲南院士、崔屹院士等，最新5篇Nature集锦，无掩膜光刻立大功！

近年来，传统半导体的发展愈发受制于固有物理极限，漏极诱导势垒降低、界面散射导致的迁移率退化、半导体带宽限制的电流开关比等问题逐渐凸显。在此背景下，原子层厚度的二维（2D）半导体凭借特殊的电子特性，成为突破后硅时代技术瓶颈的核心方向。