说明：本文华算科技系统总结了多种引入缺陷的方法，包括化学还原、高温退火、球磨、闪蒸焦耳加热、金属粉末辅助氮化、紫外线辐照、快速加热相变和等离子体刻蚀等。

等离子体 球磨 金属粉末 nabh4 tio2 2025-08-07 15:48  2