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ASML：正在开发下一代光刻机

Jos Benschop 表示，ASML和蔡司正在研究能够在一次曝光中打印分辨率高达 5 纳米的电路的机器设计，并补充说该技术将足够先进，可以满足 2035 年及以后的行业需求。

近日，《半导体工程》杂志与四位专家就掩模制造的现状和未来方向进行了探讨，其中，HJL Lithography 首席光刻师 Harry Levinson、D2S首席执行官 Aki Fujimura、美光公司掩模技术高级总监 Ezequiel Russell 以及

近期，中国科学院上海光学精密机械研究所先进激光与光电功能材料部特种玻璃与光纤研究中心于飞研究员团队，开展了高数值孔径多芯成像光纤中微气泡缺陷的研究，相关成果以“Study of microbubble defects in high-NA silicate-g

据标普 Capital IQ 数据显示，ASML 被视为半导体供应链中的关键一环，其股价去年 7 月创下每股逾 1000 欧元的历史新高，市值达到 4295 亿美元。但截至周二收盘，ASML 市值已跌至略低于 2970 亿美元。