DUV光刻机，也能生产2nm芯片？
《国际设备和系统路线图》（2022 年版）指出，预计 2025 年（今年）推出的“2nm”节点的最小（金属）半节距为 10nm。事实上，这低于目前最先进的 EUV 系统的分辨率，其数值孔径 (NA) 为 0.33。即使对于下一代High NA（0.55 NA）
《国际设备和系统路线图》（2022 年版）指出，预计 2025 年（今年）推出的“2nm”节点的最小（金属）半节距为 10nm。事实上，这低于目前最先进的 EUV 系统的分辨率，其数值孔径 (NA) 为 0.33。即使对于下一代High NA（0.55 NA）