麒麟芯片性能难提升,华为设计虽先进,国产EUV光刻机却遥遥无期
麒麟芯片性能难提升,华为设计虽先进,国产EUV光刻机却遥遥无期。有人说2021年出现ADT阶段类似的真空腔体,如何解释?只能说那时候就有了ADT阶段的EUV了。真空腔需要做真空实验,不是拿个设备抽真空那么简单,需要用到真空室,反复实验。不是要造出来,还要试出来
麒麟芯片性能难提升,华为设计虽先进,国产EUV光刻机却遥遥无期。有人说2021年出现ADT阶段类似的真空腔体,如何解释?只能说那时候就有了ADT阶段的EUV了。真空腔需要做真空实验,不是拿个设备抽真空那么简单,需要用到真空室,反复实验。不是要造出来,还要试出来