上海应用技术大学联合团队在二维半导体材料异质外延领域重大突破
在光电探测技术领域,随着高性能应用需求的不断增长,对于新型光探测材料的要求也日益提高。近日,来自上海应用技术大学的科研团队与国科大杭州高等研究院及美国麻省理工学院(MIT)等国内外知名机构合作,共同在二维半导体材料的异质外延技术上取得了显著进展。该项研究不仅推
在光电探测技术领域,随着高性能应用需求的不断增长,对于新型光探测材料的要求也日益提高。近日,来自上海应用技术大学的科研团队与国科大杭州高等研究院及美国麻省理工学院(MIT)等国内外知名机构合作,共同在二维半导体材料的异质外延技术上取得了显著进展。该项研究不仅推
上海应用技术大学团队携手国科大杭州高等研究院、美国麻省理工学院(MIT)等国内外单位,在二维半导体材料异质外延方面取得重要进展。
在高性能探测技术领域,我国的应用需求正以前所未有的速度增长,这一趋势对新型光探测材料的研发提出了更为严苛的挑战。作为光电探测技术的核心要素,异质外延半导体材料凭借其卓越的光电性能,被视为未来科技发展的潜力股。
上海应用技术大学团队携手国科大杭州高等研究院、美国麻省理工学院(MIT)等国内外单位,在二维半导体材料异质外延方面取得重要进展。