基团

光刻工艺中的显影技术

微流控芯片专家 - 苏州汶颢微流控技术股份有限公司是半导体制造的核心技术,通过光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化,再经过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜上的图形转移到衬底上,是现代半导体、微电子、信息产业的基础,直接决定了这些技术的发展水平。

光刻 工艺 显影液 基团 光刻工艺 2025-06-09 22:20  5

表面活性剂的原理

表面活性剂的原理是基于其分子结构中同时具有亲水基团与疏水基团的特点,从而在液体表面形成单分子膜,降低表面张力或界面张力,使两种本不相溶的物质得以均匀混合,广泛应用于清洗、乳化、分散、润湿等多种工业领域。本文将详细介绍表面活性剂的作用机理、分类、性能与应用。

亲水基团 胶束 基团 表面活性剂 羧酸盐 2025-05-21 11:12  5