摘要：国家知识产权局信息显示，KOMICO有限公司申请一项名为“等离子体热喷涂被膜及其制备方法以及耐等离子体构件”的专利，公开号CN120026271A，申请日期为2024年11月。

金融界2025年5月23日消息，国家知识产权局信息显示，KOMICO有限公司申请一项名为“等离子体热喷涂被膜及其制备方法以及耐等离子体构件”的专利，公开号CN120026271A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本发明涉及一种等离子体热喷涂被膜及其制备方法以及耐等离子体构件。本发明提供一种等离子体热喷涂被膜的制备方法，其包括：提供含有钇铝石榴石晶体的粉末粉末的步骤；从等离子体热炬炬向母材形成等离子体流的步骤；向所述等离子体流供应所述颗粒粉末以形成粉末粉末的熔融滴滴的步骤；向与含有所述熔融滴滴的等离子体流交叉的方向提供冷却剂流的步骤；以及向所述热喷涂母材提供经过所述冷却剂流的等离子体流以包含包含晶体相和非晶体相的热喷涂被膜的步骤。

来源：金融界