摘要：该奖项旨在表彰2024年度于前沿技术领域开展原始性重大技术创新，达到国际先进/领先水平，未来或产生重大经济社会效益，对于推动我国集成电路产业链自主安全可控发展发挥重大作用的企业。

2024年12月14日，由半导体投资联盟主办、爱集微承办的“2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼”在上海·上海中心圆满举行。

阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司（以下简称：欣奕华材料）荣获“年度技术突破奖”。

该奖项旨在表彰2024年度于前沿技术领域开展原始性重大技术创新，达到国际先进/领先水平，未来或产生重大经济社会效益，对于推动我国集成电路产业链自主安全可控发展发挥重大作用的企业。

助力光刻胶本土化率显著提升

欣奕华材料是一家专业从事高端光刻胶（显示光刻胶&半导体光刻胶）、OLED材料研发、生产、销售与服务的高科技企业，业务覆盖新型显示和集成电路等国家战略性新兴产业上游关键材料，是中国大陆首家实现彩色/黑色显示光刻胶（RGB/BM）大规模量产出货的企业。

经过十余年深耕细作，欣奕华材料光刻胶出货实绩位居全球前列，成功填补了国内在该领域的空白。同时，依托在光刻胶领域积累的技术经验，欣奕华材料不断进行产业技术融合和产品延伸，多款新型显示和集成电路用材料实现了技术突破和量产，取得显著产业化成果。

在半导体光刻胶领域，欣奕华材料专注高端集成电路、先进封装制程应用光刻胶的开发与生产，研发团队由多名行业领军专家带领，因而具备强劲的研发实力和深厚的技术积累。目前，欣奕华材料已经与多家12英寸Fab厂和先进封装产线达成合作关系，多款KrF、I-line、先进封装光刻胶产品正在客户导入验证中，并成功获取批量订单实现出货。

此外，欣奕华材料还开发出IC用特种光刻胶，如高分辨光刻胶（CIS）、微透镜光刻胶等，这些产品均属于国内首创，可应用于CIS、AR/VR领域，并且已通过客户认证。

技术实力获社会各界广泛认可

凭借卓越的产品研发创新和产业化技术能力，以及对高端光刻胶、OLED材料国产化的有力贡献，欣奕华材料获得了产业链、政府以及社会各界的广泛认可：获评包括国家级专精特新“小巨人”企业、中国海关AEO高级企业认证；获批设立博士后工作站、省级企业技术中心；光刻胶产品经安徽省首批次新材料评定达到“国际先进水平、实现自主供应能力”；荣获国际信息显示学会（SID）评选的ICDT“年度最佳显示组件产品奖”、中国新型显示产业链卓越贡献奖、京东方全球创新伙伴大会“杰出战略合作伙伴奖”、TCL华星供应链大会“优秀合作伙伴奖”等多项产业链荣誉。

与此同时，欣奕华材料还承担以及参与了多项科技部、工信部、省市级和顶尖院校重大项目合作开发工作，并实现多个项目产业化，这充分体现出国家机关部门和科研院所对公司的认可与肯定。

如今，欣奕华材料凭借明星产品SKP10系列获评“IC风云榜-年度技术突破奖”。该奖项要求企业深耕半导体某一细分领域，在2024年发布的新技术或产品具有原始性重大技术创新，达到国际先进/领先水平，产品应用范围广，并具备良好市场前景，对全球及半导体产业发展起到重要作用。可见SKP10系列无论在技术创新还是市场应用方面，均达到了行业领先水平。

资料显示，SKP10系列专为12英寸晶圆制造中的离子注入工艺应用设计的KrF光阻，凭借高深宽比（A/R>7/1）、高解析度、宽工艺窗口、低驻波及卓越的抗离子注入性能，能够灵活应用于不同膜厚（1-3μm）的离子注入工艺层，满足多个成熟制程技术节点的晶圆制造需求。该产品在离子注入应用中经客户验证，可对标国际同类型产品性能，目前已在国内12英寸产线进行工艺、电学和良率验证，各方面表现优异。基于此，欣奕华材料对SKP10系列申请了多项发明专利，涵盖化学放大型光致抗蚀剂及其制备方法、应用等多个领域，彰显出行业领先的技术研发实力。

作为中国集成电路领域的重要风向标，IC风云榜的影响力和关注度逐年攀升，记录和展示行业的辉煌成就与蓬勃发展，成为半导体行业内最具影响力的奖项之一，吸引了全球数以万计的专业人士和投资者的目光。

评选结果经过半导体投资联盟超100家会员单位、500多位半导体行业CEO共同担任的评委会投票产生，IC风云榜深受业界的认可与青睐，它不仅表彰了众多在技术创新、产品设计制造、行业资本管理及运作、产业链上下游集群建设等方面作出突出贡献的企业，也见证了企业在获奖后市值的显著增长和品牌的国际影响力提升。我们将持续激发产业创新潜能，厚植产业创新沃土，为中国半导体产业的高质量发展提供强有力的支持和推动。

来源：集微网