中国芯无忧了？浸润式DUV光刻机，最高能制造2nm芯片？
不过大家都清楚，虽然全球的芯片技术如此之先进，但中国大陆的芯片制造技术却落后好几代，目前我们公开的技术还在14nm，至于没公开的大家猜测最多也就是等效7nm。
duv光刻机
DUV光刻机，也能生产2nm芯片？
《国际设备和系统路线图》（2022 年版）指出，预计 2025 年（今年）推出的“2nm”节点的最小（金属）半节距为 10nm。事实上，这低于目前最先进的 EUV 系统的分辨率，其数值孔径 (NA) 为 0.33。即使对于下一代High NA（0.55 NA）
不要只盯着EUV了，DUV光刻机其实也能造3纳米甚至2纳米芯片
晶体管的这些宽度与光刻的分辨率有关，因为刻蚀的时候，是把光刻的地方刻蚀掉，然后进行离子沉淀，因此光刻的最小分辨率就决定了晶体管的尺寸。
芯片制造新突破？DUV光刻机挑战5nm制程，但代价高昂！
各位朋友们，今天咱们得聊聊一个听起来挺高大上，但实际上跟咱们生活息息相关的话题——芯片制造。你可能会想，芯片制造跟我一个普通老百姓有啥关系啊？别急，我这就用咱们老百姓的话，给大伙儿说道说道。