在半导体芯片制造过程中，超纯水作为晶圆清洗、光刻显影、化学机械抛光等关键工艺的“隐形原料”，其纯度直接决定产品良率。总有机碳（TOC）作为衡量水中有机物总量的核心指标，一旦超标可能导致晶圆表面缺陷、光刻图案失真等问题。本文将直接解答两个关键问题：半导体超纯水T

toc 超纯水 超纯水toc toc检测 半导体超纯水 2025-08-07 20:10  2