国家知识产权局信息显示，上海高梵科技有限公司申请一项名为“一种可消除褶皱的服装面料反光测试装置”的专利，公开号CN120102520A，申请日期为2025年03月。

高梵 专利 面料 张紧 服装面料 2025-06-06 17:41  3