掩膜版，迎来巨变
近日，《半导体工程》杂志与四位专家就掩模制造的现状和未来方向进行了探讨，其中，HJL Lithography 首席光刻师 Harry Levinson、D2S首席执行官 Aki Fujimura、美光公司掩模技术高级总监 Ezequiel Russell 以及
光罩
柯·创之城，需要更多的“独角兽”
在第九届万物生长大会上，《2025浙江独角兽企业系列榜单》正式发布，柯桥区企业——建信佳人、华辰芯光、兴华芯3家企业进入浙江未来独角兽企业TOP100；海擘生物、联芯致康2家企业进入浙江种子独角兽企业TOP100。