中国新型光刻设备，杀出一条血路，ASML原CEO的话被验证了
如今，这一预言得到了验证。最近，中国新锐企业携15款以中国山脉命名的光刻设备亮相上海半导体展会，涵盖第三代半导体、先进制程等领域，释放出国产设备技术突围的强烈信号。
光刻设备
北方华创欲“入主”芯源微，补齐光刻设备领域布局拼图
进入2025年，国内半导体并购潮仍在继续。据北方华创3月11日发布的公告，该公司拟通过受让股份的方式取得对沈阳芯源微电子设备股份有限公司（下称“芯源微”）的控制权。北方华创此举意在将业务触手伸向光刻设备领域，完善其在半导体市场的产业链布局，目前，除光刻机和CM
光刻设备详述
这类光刻技术能达到亚微米级的高分辨率，掩模图形与衬底上的曝光图形在尺寸上近乎一致，基本实现了1:1的比例复制。但是最小分辨率会受到上图公式的约束。并且掩模在曝光过程中易受污染，成为消耗品，但是由于这类光刻设备构造简单，维护成本较低，至今仍在小尺寸衬底的批量生产