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掩膜版，迎来巨变

近日，《半导体工程》杂志与四位专家就掩模制造的现状和未来方向进行了探讨，其中，HJL Lithography 首席光刻师 Harry Levinson、D2S首席执行官 Aki Fujimura、美光公司掩模技术高级总监 Ezequiel Russell 以及

在计算机视觉领域，YOLO系列模型凭借其高效准确的目标检测和分割能力，广泛应用于安防监控、自动驾驶、医疗影像等众多场景。近期，Ultralytics官方发布了YOLO版本v8.3.152，带来了多项关键优化：从分割掩膜的精细化处理、训练时显存智能管理，到评估阶

现在各家OLED面板制造商，都在研究无掩膜OLED的生产工艺，而之前应用材料的MAX OLED设备则为各家制造商打开了最后的通道。我们之前就报道过，国内的维信诺以及韩国的三星，很可能是最早采用应用材料公司MAX OLED设备，来使用无掩膜生产工艺打造OLED面

电子发烧友网报道（文/黄山明）在半导体行业迈向3nm及以下节点的今天，光刻工艺的精度与效率已成为决定芯片性能与成本的核心要素。光刻掩模作为光刻技术的“底片”，其设计质量直接决定了晶体管结构的精准度。

库里表示：“你希望能把这个数字推到哪里——你知道所有的纪录都是用来被打破的，这就是体育运动和生活的规律，但我希望，凭借数量和准确性，这可能是一个非常非常难以打破的数字。”