电子发烧友网报道（文/黄山明）在半导体行业迈向3nm及以下节点的今天，光刻工艺的精度与效率已成为决定芯片性能与成本的核心要素。光刻掩模作为光刻技术的“底片”，其设计质量直接决定了晶体管结构的精准度。

芯片 掩膜 摩尔定律 科技掩膜 掩膜方案 2025-05-16 17:52  2

库里表示：“你希望能把这个数字推到哪里——你知道所有的纪录都是用来被打破的，这就是体育运动和生活的规律，但我希望，凭借数量和准确性，这可能是一个非常非常难以打破的数字。”

库里 詹姆斯 得分纪录 2024-11-21 05:24  3