重大突破！哈工大成功攻克EVU光刻机 哈尔滨工业大学（哈工大）成功研发出中心波长为13.5纳米的极紫外（EUV）光技术，为中国光刻机技术的发展带来了重大突破，也为中国芯片制造业在面临挑战时找到了破局之策。 哈工大 光刻机 evu光刻机 2025-01-23 11:59 3