有研硅上涨7.28%,报10.46元/股
资料显示,有研半导体硅材料股份公司位于北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧,公司专注于硅及其他半导体材料的研究、开发、生产和经营,主要产品包括集成电路用硅单晶及硅片等。公司在国内外市场享有较高的知名度和影响力,其控股股东RSTechnologies是全球最大的
资料显示,有研半导体硅材料股份公司位于北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧,公司专注于硅及其他半导体材料的研究、开发、生产和经营,主要产品包括集成电路用硅单晶及硅片等。公司在国内外市场享有较高的知名度和影响力,其控股股东RSTechnologies是全球最大的
3月21日,英伟达创始人兼CEO黄仁勋再次穿着标志性皮衣亮相,发布了多款针对AI的最新技术。不同于以往AI只是针对于软件产品,这次英伟达还发布了用于先进制程芯片设计和制造,可以让计算光刻变的更“聪明”的加速技术。一时间让光刻机再次成为聚焦。
这类光刻技术能达到亚微米级的高分辨率,掩模图形与衬底上的曝光图形在尺寸上近乎一致,基本实现了1:1的比例复制。但是最小分辨率会受到上图公式的约束。并且掩模在曝光过程中易受污染,成为消耗品,但是由于这类光刻设备构造简单,维护成本较低,至今仍在小尺寸衬底的批量生产
良率是集成电路制造中最重要的指标之一。集成电路制造厂需对工艺和设备进行持续评估,以确保各项工艺步骤均满足预期目标,即每个步骤的结果都处于生产所需的工艺窗口范围内。这些窗口可能包括缺陷密度范围或薄膜厚度的最大与最小可接受值等。由于集成电路制造过程极为复杂,涉及数