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晶片干燥技术在高洁净湿法清洗设备中的应用

干燥的目的是去除晶片表面的液体，保证晶片的洁净度。干燥技术作为湿法清洗最后的步骤，最终决定了晶片清洗的表面质量。分别探讨了离心甩干干燥单元、IR 干燥、Marangoni 干燥等技术，同时介绍了各自的优缺点，这些技术在高洁净湿法批处理清洗设备中都有非常广泛