综述!化学气相沉积碳膜,用于充电电池应用的最新进展
通过化学气相沉积(CVD)技术合成的碳膜在二次电池应用中备受关注,因为下一代电子设备和电动汽车需要提高碳膜的稳定性和容量。除了碳膜固有的特性,如高导电性、机械强度、化学稳定性和柔韧性,CVD 方法还为电池应用中的碳膜设计提供了高度的自由度,可通过保形涂层和结构
通过化学气相沉积(CVD)技术合成的碳膜在二次电池应用中备受关注,因为下一代电子设备和电动汽车需要提高碳膜的稳定性和容量。除了碳膜固有的特性,如高导电性、机械强度、化学稳定性和柔韧性,CVD 方法还为电池应用中的碳膜设计提供了高度的自由度,可通过保形涂层和结构
国家知识产权局信息显示,深圳市正和忠信股份有限公司取得一项名为“一种物理气相沉积干涉膜装饰涂层的均布挂具”的专利,授权公告号 CN 222205402 U,申请日期为2024年1月。