Ansys Zemax | 如何通过 K-相关分布模拟表面散射
本文旨在介绍如何在OpticStudio中模拟K-相关分布散射模型，并用实例分析将该模型与Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型进行了比较。
zemax ansys ansyszemax sfv tis 2025-05-20 14:59 4
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西门子EDA：业界首次流片成功率2024年已降至14%！
西门子EDA（Siemens EDA）设计验证技术副总裁兼总经理 Abhi Kolpekwar 表示，目前首次流片成功率（应该指的是基于尖端制程工艺的芯片）正在下降，已经从 2020 年的 32% 和2022 年的 24% 下降到 2024 年的 14%。